Pressentindo a aproximação de um novo salto "destrutivo", emulando aqui a expressão shumpteriana da "destruição criativa", pesquisei sobre a manutenção das tecnologias de produção de chips que a Canon e Nikon baseadas em tecnologia DUV ( Litografia por Imersão em Arco Profundo) no lugar da mais recente EUV( Litografia por Ultravioleta Extremo) utilizada pela empresa holandesa ASML No resultado da pesquisa(1👇) ficou evidente que tanto a Canon e a Nikon viam mercado para as tecnologias empregadas que estão um passo atrás da EUV empregada exclusivamente pela ASML.
Ou seja existe uma quantidade de aplicações que justifica a produção dos chips com tecnologia anterior. Podemos citar também o caso das instituições bancárias no mundo inteiro que utilizam sistemas construídos ainda em linguagem COBOL funcionando plenamente operando no ambiente internet, utilizando api´s em Java, C++, Python etc...já que o tamanho e a complexidade destes sistemas implicariam em um custo imenso para serem reescritos, testados, etc..com os riscos inerenetes.
O interesse na matéria se deve ao que mencionei em postagem anterior que justifica o investimento por parte das instituições e empresas brasileiras na produção de chips não necessariamente miniatutizados ao nívem de 2nM (2 nanômetros)
É o caso da brasileira CEITEC, fechada pelo primarismo do superministro do governo passado e agora com sacrifício reaberta, que produzia RFID´s e marcadores de gado além de sistemas logísticos de contagem, que alavancavam o desenvolvimento eem direção a sistema digitais avançados.
Se as gigantes Canon e Nikon se mantiveram na base da tecnologia, provavelmente (provavelmente não, certamente) a Huawey deve estar "destruindo schumpterianamente", acompanhada por pesquisa avançada, a miniaturização que hoje chega ao limite de Moore. Ou seja, estão recuando para dar o bote, qual a serpente azteca de Quetzalcoatl.
Temos que dar o salto também.
1- (https://www.blogger.com/blog/post/edit/7714812914870144096/3518777737444205873)
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